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历史招中标信息221927条
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| 采购单位: | ****点击查看 |
| 项目名称: | 紫外接触光刻机 |
| 预算金额（元）: | 3,000,000.00 |
| 采购品目: | 其他分析仪器 |
| 采购需求概况: | 为满足微纳器件高精度图形化加工及光刻工艺研发需求，现拟采购紫外接触光刻机设备一套。该设备为微纳加工领域核心装备，需具备高精度双面对准、接触/近接曝光及多尺寸基片兼容能力，且整机运行稳定、对准曝光精度高、技术体系成熟，可充分满足各类微纳器件、光电子器件及量子器件的精密光刻与工艺研究需求。 |
| 联系人: | 王老师 |
| 联系电话: | 0755-****点击查看7536转123 |
| 预计采购时间: | 2026年10月 |
| 备注: | 无 |
本次公开的****点击查看政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
2026年9月21日
基本情况
上次中标企业: 北京****公司
潜在竞争对手: 共
929
个, 其中与甲方合作关系紧密的
4 家
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